布鲁克公司（Bruker Corporation，纳斯达克代码：BRKR）近日宣布，将宣布加速推进光热原子力显微镜-红外光谱（AFM-IR）技术的研发，以应对半导体行业当前面临的科研挑战。随着器件架构持续微型化、系统日趋复杂化，这项技术正发挥着关键作用。

   作为半导体行业最大的纳米级红外（nanoIR）光谱技术供应商，布鲁克正推动 AFM-IR 的应用从传统的纳米级污染分析领域，进一步拓展至支撑下一代半导体技术的研究方向，包括EUV光刻胶图案化与显影、用于晶体管持续微缩的先进材料，以及面向新兴传感与功能器件应用的纳米级位点选择性表面功能化技术。

   在与全球领先的先进半导体技术研发与创新机构 IMEC 开展的联合开发项目（JDP）中，布鲁克已安装其 Dimension IconIR 系统，以协助评估光热 AFM-IR 技术在解决这些关键性、跨越式研究问题方面的应用价值。该合作项目重点评估纳米尺度化学表征如何揭示影响半导体工艺开发与器件性能的材料行为及界面特性。

   布鲁克 Dimension IconIR 系统安装在 IMEC从左向右依次为Hartmut Stadler（布鲁克）、Dowon Kim（IMEC）以及 Marcel Laarhoven（布鲁克）“先进半导体研究对计量学技术的要求正在快速演进。我们将与布鲁克携手评估 nanoIR 技术如何助力助力应对纳米级材料表征领域不断涌现的新需求。”IMEC高级研究员、该联合开发项目（JDP）负责人 Albert Minj 表示，“IconIR系统实现了无标记化学分析，分辨率可达5纳米以下，有助于深入理解 EUV 抗蚀剂化学反应及材料相互作用，这对下一代器件概念具有重要意义。”

   布鲁克纳米表面与计量事业部总裁 David V. Rossi 补充道：“与 IMEC 的合作使我们能够大幅拓展光热 AFM-IR 技术在半导体研究环境中的应用能力。通过研究复杂材料体系及其界面结构，纳米级红外光谱技术可提供传统技术无法获得的化学层面信息。

   ”原文链接：https://ir.bruker.com/press-releases/press-release-details/2026/Bruker-Invests-in-Photothermal-AFM-IR-to-Advance-Semiconductor-Research/default.aspx

      关于 Dimension IconIRDimension IconIR，将纳米级红外光谱与扫描探针显微技术（SPM）相结合，可实现高性能纳米级红外光谱、高分辨化学成像和单分子层灵敏度。该系统建立在世界上使用最多的大样本AFM平台Dimension Icon上，提供终极样本灵活性，同时保留了Icon 卓越的原子力测量性能和功能。标准系统支持最大150 mm的样品，也可提供更大样品的版本。布鲁克基于光热效应的AFM-IR系列专利，是目前最全的纳米红外光谱技术，数百篇文章证明了其作为世界领先纳米红外技术的成功。客户发表的文章不断展示了其与FTIR技术相一致的最高性能光谱和化学成像分辨率。IconIR支持众多Dimension平台的配件和SPM模式，是材料研究最先进的纳米级表征系统。

     关于布鲁克公司——后基因组时代的引领者布鲁克致力于促进科学家和工程师取得突破性后基因组发现并开发新应用以提升人类生活质量。布鲁克的高性能科学仪器和高价值分析和诊断解决方案，助力科学家在分子、细胞和微观层面来探究生命和材料的奥秘。凭借与客户的密切合作，布鲁克在后基因组生命科学分子和细胞生物学研究、在专业诊断领域, 应用和制药领域、显微镜和纳米分析、工业和清洁技术研究以及支持人工智能的下一代半导体计量等领域实现了创新突破和生产力提升，并促进客户取得了成功。

    布鲁克在临床前成像、临床表型组学研究、蛋白组学和多组学、空间和单细胞生物学、功能结构和凝聚体生物学，临床微生物学和分子诊断等领域提供差异化的、高价值的生命科学和诊断的仪器系统和解决方案