【仪器名称】：光致发光扫描系统（PL mapping）

【设备型号】：M-200

【设备厂商】：韩国ECOPIA

【仪器详情】：

光致发光（PL）是一种辐射复合效应。在一定波长光源的激发下，电子吸收激发光子的能量，向高能级跃迁而处于激发态。激发态是不稳定的状态，会以辐射复合的形式发射光子向低能级跃迁，这种被发射的光称为荧光。荧光光谱代表了材料内部一定的电子能级跃迁的机制，也反映了材料的性能及其缺陷。

PL测量是一种用于分析材料光学、结构特性信息的光谱技术。通过对样品不同位置区域PL荧光光谱的采集和分析，即PL mapping，可以获得材料发光波长、带隙、晶体结构以及缺陷等信息，对材料发光均匀性和结构特性进行有效分析。

【主要特点】：

● 扫描步长精确到0.5mm

● 测试样品精确定位，尺寸选择多样化，适用于2、4、6英寸

● 可进行PL测试、膜厚及反射率的测试

● 多种扫描模式：单点光谱mapping、单波长mapping、峰值波长mapping、峰值强度mapping

【技术参数】：

● 可进行托盘设计及测量数据批量对比

● 激发光源：405nm激光器，最大输出功率100mW，功率连续可调；

● 适用于2、4、6英寸样品，可同时放置6块2英寸样品；

● 样品台X、Y定位150mm，分辨率0.5mm，定位精度0.1mm;

● PL荧光光谱探测范围：350-800nm   光谱分辨率：光谱分辨率≤0.3nm;

● 膜厚测试范围：1-19μm，膜厚分辨率：5%;

● 可单点光谱mapping、单波长mapping、峰值波长mapping、峰值强度mapping等多种模式扫描测量

【应用领域】：

光致发光扫描系统可广泛应用于LED晶圆检测、生物研究、量子点研究、镀膜测量、玻璃行业、宝石研究、光伏产业、特殊光源检测等领域。

● LED晶圆发光均匀性检测

● 膜厚均匀性检测

● 托盘设计

● 晶圆PL荧光光谱对比

●矿物、染料荧光测量